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厂家供应高纯高致密碲化锑靶材 三碲化二锑靶材 溅射靶材

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有效期至: 长期有效
最后更新: 2017-12-06 03:57
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“厂家供应高纯高致密碲化锑靶材 三碲化二锑靶材 溅射靶材”参数说明

是否有现货: 加工定制:
种类: 化合物半导体 特性: 高致密
用途: 镀膜 型号: 4N
规格: 99.99% 商标: CNBM
包装: 适合运输包装 产量: 2000

“厂家供应高纯高致密碲化锑靶材 三碲化二锑靶材 溅射靶材”详细介绍

我公司长期提供各种高纯金属,半导体化合物,靶材,接受各种定制合成。(冉松林,13541048799,QQ:122686839)
主营产品或服务:
靶材;陶瓷靶材;金属靶材;合金靶材;蒸发镀膜料;蒸发舟;坩埚;基片;晶体材料;粉末材料;sputtering target;磁控溅射靶材;高纯金属;氧化物靶材;氟化物靶材;硫化物靶材;半导体材料;贵金属;太阳能材料


优势产品:
1.磁控溅射靶材(高纯单质金属靶材,高纯合金靶材,陶瓷靶材,陶瓷复合靶材,稀土靶材,贵金属靶材)
2.真空镀膜料(高纯金属膜料,高纯化合物膜料,贵金属膜料)
3.稀土金属(蒸馏稀土金属,还原稀土金属)
4.镀膜基片(Si硅基片,氧化硅基片,氟化物基片)
5.纳米化合物粉末,纳米金属粉末,高纯试剂,晶体材料等

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